高周波プラズマ蒸着による非晶質水素化硬質炭素薄膜  作製,特性および応用

BUBENZER A; DISCHLER B; BRANDT G; KOIDL P

文献

J-GLOBAL ID：200902003471824438 整理番号：84A0273339

高周波プラズマ蒸着による非晶質水素化硬質炭素薄膜作製,特性および応用

rf-Plasma deposited amorphous hydrogenated hard carbon thin films: Preparation, properties, and applications.

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巻： 54 号： 8 ページ： 4590-4595 発行年： 1983年08月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

rfグロー放電プラズマ中でベンゼン蒸気から高電気絶縁性かつ硬...

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その他の無機化合物の薄膜 , 光物性一般

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高周波プラズマ蒸着による非晶質水素化硬質炭素薄膜 作製,特性および応用

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