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J-GLOBAL ID:200902003471824438   整理番号:84A0273339

高周波プラズマ蒸着による非晶質水素化硬質炭素薄膜 作製,特性および応用

rf-Plasma deposited amorphous hydrogenated hard carbon thin films: Preparation, properties, and applications.
著者 (4件):
資料名:
巻: 54  号:ページ: 4590-4595  発行年: 1983年08月 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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rfグロー放電プラズマ中でベンゼン蒸気から高電気絶縁性かつ硬...
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分類 (2件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  光物性一般 

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