シンクロトロン光励起の化学蒸着とエッチング

URISU T; KYURAGI H

文献

J-GLOBAL ID：200902004893923834 整理番号：88A0101967

シンクロトロン光励起の化学蒸着とエッチング

Synchrotron radiation-excited chemical-vapor deposition and etching.

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資料名：
巻： 5 号： 5 ページ： 1436-1440 発行年： 1987年09月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

2.5GeVのストレージリングのシンクロトロン光を用い,反応...

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半導体薄膜

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