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J-GLOBAL ID：200902006183549669   整理番号：92A0634043

Two-photon lithography for microelectronic application.

著者 (4件)：
WU E S

WU E S について

(Univ. Maryland Baltimore County, MD)

Univ. Maryland Baltimore County, MD について

, 
STRICKLER J H

STRICKLER J H について

(Cornell Univ., NY)

Cornell Univ., NY について

, 
HARRELL W R

HARRELL W R について

(Microelectronics Research Lab., MD)

Microelectronics Research Lab., MD について

, 
WEBB W W

WEBB W W について

(Cornell Univ., NY)

Cornell Univ., NY について


資料名：
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

Proceedings of SPIE について


巻： 1674  号： Pt 2  ページ： 776-782  発行年： 1992年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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