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J-GLOBAL ID：200902007810147438   整理番号：90A0804457

Silylation processes for 193-nm excimer laser lithography.

著者 (4件)： HARTNEY M A (Massachusetts Inst. Technology, MA) ,  KUNZ R R (Massachusetts Inst. Technology, MA) ,  EHRLICH D J (Massachusetts Inst. Technology, MA) ,  SHAVER D C (Massachusetts Inst. Technology, MA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 1262  ページ： 119-130  発行年： 1990年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： LASER