10nm解像度電子ビームリソグラフィー

CRAIGHEAD H G

文献

J-GLOBAL ID：200902009243754940 整理番号：85A0050443

10nm解像度電子ビームリソグラフィー

10-nm resolution electron-beam lithography.

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 55 号： 12 ページ： 4430-4435 発行年： 1984年06月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

透過電子顕微鏡/走査型透過電子顕微鏡/走査電子顕微鏡を電子ビ...

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固体デバイス製造技術一般

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