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J-GLOBAL ID：200902009959230756   整理番号：91A0342457

DCマグネトロンスパッタリングによるディスプレイ用高伝導率大面積ITO電極

High conducting large area indium tin oxide electrodes for displays prepared by DC magnetron sputtering.

著者 (3件)： LATZ R (Leybold AG, Alzenau, DEU) ,  MICHAEL K (Leybold AG, Alzenau, DEU) ,  SCHERER M (Leybold AG, Alzenau, DEU)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 30  号： 2A  ページ： L149-L151  発行年： 1991年02月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 伝導率の高いITO電極の形成技術とその大量生産技術について述...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...

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分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： DCマグネトロンスパッタリング ,  ディスプレイ ,  伝導率 ,  大面積 ,  ITO電極