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J-GLOBAL ID：200902010978806950   整理番号：89A0143493

ノボラック樹脂の分子量およびクレゾール異性体比のポジ型フォトレジスト性能への影響

Influence of molecular weight and cresol isomer ratio in novolak resins on the performance of positive photoresist.

著者 (2件)： 花畑誠 (住友化学工業 大阪研) ,  古田秋弘 (住友化学工業 大阪研)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 46  号： 1  ページ： 15-19  発行年： 1989年01月 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポジ型フォトレジストの主成分であるノボラック樹脂の分子量が増...

シソーラス用語： ノボラック ,...
準シソーラス用語： クレゾール ,...

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分類 (1件)： その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (3件)：

• 1) 花畑誠, 古田秋弘, 高分子論文集, 45, 803 (1988).
• 2) H.F. Mark, D.F. Othmer, C.G. Overberger, G.T. Seaborg, and Kirk-Othmer“Encydopedia of Chemical Technology”, 3rd Edition, Vol. 17, Wiley, New York (1982), p.384
• 3) A. Knop and W. Scheib, “Chemistry and Application of Phenolic Resins”, Springer, New York (1979).

タイトルに関連する用語 (5件)： ノボラック樹脂 ,  分子量 ,  クレゾール ,  異性体 ,  ポジ型フォトレジスト