プラズマ処理によりヘキサメチルジシロキサンとSiOとから作製したハイブリッド膜

文献

J-GLOBAL ID：200902014759440580 整理番号：91A0791915

Hybrid Films Formed from Hexamethyldisiloxane and SiO by Plasma Process.

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資料名：
巻： 30 号： 8 ページ： 1803-1807 発行年： 1991年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

SiOを含むヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)ハイブリッ...

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有機化合物の薄膜 , 高分子固体の構造と形態学

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