a-Si:H:O薄膜における酸素と水素の局所結合

LUCOVSKY G; POLLARD W B

文献

J-GLOBAL ID：200902016198143087 整理番号：83A0482785

a-Si:H:O薄膜における酸素と水素の局所結合

Local bonding of oxygen and hydrogen in a-Si:H:O thin films.

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資料名：
巻： 1 号： 2 Pt 1 ページ： 313-316 発行年： 1983年04月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

a-Si:H:O合金の,酸素によって生ずるIR吸収帯について...

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無秩序系の振動状態 , 無機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル

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