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J-GLOBAL ID：200902016282584650   整理番号：84A0398738

パルスめっき成膜技術

著者 (2件)： 大野いずみ (東京工大) ,  春山志郎 (東京工大工)
資料名： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
巻： 52  号： 7  ページ： 445-451  発行年： 1984年07月 
JST資料番号： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 標題技術の基礎と応用例の解説。パルス電解に最も特徴的な物質移...

シソーラス用語： パルス法 ,...

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分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (2件)： パルスめっき ,  成膜