プロセスプラズマ環境における汚染粒子の静電捕獲

CARLILE R N; GEHA S; O’HANLON J F; STEWART J C

文献

J-GLOBAL ID：200902022005642570 整理番号：91A0798338

プロセスプラズマ環境における汚染粒子の静電捕獲

Electrostatic trapping of contamination particles in a process plasma environment.

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巻： 59 号： 10 ページ： 1167-1169 発行年： 1991年09月02日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

同調Langmuirプローブを用いて,標記の汚染粒子が静電的...

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