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J-GLOBAL ID：200902022701000370   整理番号：93A0190275

Acid-diffusion effect on nanofabrication in chemical amplification resist.

著者 (3件)： YOSHIMURA T (Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN) ,  NAKAYAMA Y (Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN) ,  OKAZAKI S (Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 10  号： 6  ページ： 2615-2619  発行年： 1992年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)