TiN薄膜の酸化動力学

WITTMER M; NOSER J; MELCHIOR H

文献

J-GLOBAL ID：200902026763412726 整理番号：82A0146130

TiN薄膜の酸化動力学

Oxidation kinetics of TiN thin films.

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巻： 52 号： 11 ページ： 6659-6664 発行年： 1981年11月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

TiNをLSIのゲート電極や相互結線の材料として応用するとい...

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酸化物薄膜 , その他の無触媒反応

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