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J-GLOBAL ID：200902028550129152   整理番号：86A0336515

イオン蒸着系における蒸着高融点金属の化合物の「や金学」的特性と放電プラズマの性質との間の相関

Correlations entre la nature du plasma de decharge et les caracteristiques metallurgiques des depots de composes metalliques refractaires dans les systemes de depots ioniques.

著者 (3件)： DUPONT L (E.T.C.A., France) ,  DEGOUT D (E.T.C.A., France) ,  FARGES G (E.T.C.A., France)
資料名： Vide, les Couches Minces  (Vide, les Couches Minces)
巻： 41  号： 230  ページ： 55-59  発行年： 1986年01月 
JST資料番号： E0358A  ISSN： 0223-4335  CODEN： VCMIDS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： フランス (FRA)  言語： フランス語 (FR)

抄録/ポイント： PVDやイオンプレーティング系における薄膜の厚さ,硬さ,摩擦...

シソーラス用語： イオンめっき ,...

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分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： イオン ,  蒸着 ,  高融点金属 ,  や金学 ,  放電プラズマ ,  性質 ,  相関