文献
J-GLOBAL ID:200902031331902181
整理番号:92A0432302
紫外光同時照射プラズマCVD法によるa-Ge:H膜の成膜
The a-Ge:H films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition using in-situ UV laser irradiation method.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=92A0432302©=1") }}
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0432302&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}