CVDプロセスの高清浄化と高品質薄膜形成に関する研究

文献

J-GLOBAL ID：200902032259852812 整理番号：92A0367045

Ultraclen CVD Processing for High Quality Thin Film Growth.

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資料名：
号： 19 ページ： 1-11 発行年： 1992年03月
JST資料番号： X0673A ISSN： 0910-0792 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

CVDプロセスを高清浄化すると,ホットウオール型減圧CVD装...

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半導体薄膜 , 固体デバイス製造技術一般

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