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J-GLOBAL ID：200902033094346298   整理番号：87A0120195

直流対向陰極型スパッタ装置による斜め蒸着鉄薄膜の構造と磁気特性

Microstructure and magnetic properties of iron thin films deposited at oblique incidence by a facing targets type sputtering apparatus.

著者 (2件)： GONG S K (東京工大 大学院) ,  入戸野修 (東京工大 工)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 50  号： 11  ページ： 935-942  発行年： 1986年11月 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 荷電粒子による照射損傷を緩和する直流対向陰極型スパッタ法によ...

シソーラス用語： スパッタリング装置 ,...

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分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 直流 ,  陰極 ,  スパッタ装置 ,  斜め蒸着 ,  鉄 ,  薄膜 ,  磁気特性