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J-GLOBAL ID：200902036071419947   整理番号：88A0595404

対面ターゲットスパッタ法による良好な配向性を持った酸化亜鉛膜の反応合成

Reactive synthesis of well-oriented zinc-oxide films by means of the facing targets sputtering method.

著者 (3件)： MATSUOKA M (NTT Electrical Communications Lab., Ibaraki, JPN) ,  HOSHI Y (Tokyo Inst. Polytechnics, Atsugi-shi, JPN) ,  NAOE M (Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 63  号： 6  ページ： 2098-2103  発行年： 1988年03月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO₂/Si基板上に良好な配向性を持...

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 対面 ,  ターゲット ,  スパッタ法 ,  配向性 ,  酸化亜鉛