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J-GLOBAL ID：200902036157745588   整理番号：90A0237103

ナノリソグラフィー用の電子ビーム直接パターン書込み

Direct electron-beam patterning for nanolithography.
著者 (2件)：
LEE K L

LEE K L について

(IBM Research Division, New York)

IBM Research Division, New York について

, 
HATZAKIS M

HATZAKIS M について

(IBM Research Division, New York)

IBM Research Division, New York について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures について


巻： 7  号： 6  ページ： 1941-1946  発行年： 1989年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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0.1μm程度またはそれ以下のサイズの微小構造の直接蒸着を行...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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電子ビーム加工

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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電子ビームCVD

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分類 (2件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

,  電子ビーム・イオンビームの応用 
(BD02070X)

電子ビーム・イオンビームの応用 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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ナノリソグラフィー

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電子ビーム

電子ビーム について

, 
書込み

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