反応性イオンビームスパッタリングによるZr-N薄膜の作製

文献

J-GLOBAL ID：200902038940991748 整理番号：91A0180626

Synthesis of Zr-N thin film by reactive ion beam sputtering.

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資料名：
巻： 29 号： 12 ページ： 2800-2808 発行年： 1990年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

反応性イオンビームスパッタリングによりZr-N薄膜を作製し,...

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その他の無機化合物の薄膜

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