アンバランスマグネトロンと増強プラズマイオン化を用いた新しいスパッタ装置

MUSIL J; KADLEC S; MUENZ W-D

文献

J-GLOBAL ID：200902039013001419 整理番号：91A0658322

アンバランスマグネトロンと増強プラズマイオン化を用いた新しいスパッタ装置

Unbalanced magnetrons and new sputtering systems with enhanced plasma ionization.

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巻： 9 号： 3 Pt 1 ページ： 1171-1177 発行年： 1991年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

薄膜のスパッタ蒸着の現状と展望を示した。マグネトロンスパッタ...

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薄膜成長技術・装置 , 金属材料へのセラミック被覆

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