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J-GLOBAL ID:200902039187414291   整理番号:84A0014528

ほう素の蒸着と窒素イオンビームの衝撃による立方晶型窒化ほう素膜の形成

Formation of cubic boron nitride films by boron evaporation and nitrogen ion beam bombardment.
著者 (2件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: L171-L172  発行年: 1983年03月 
JST資料番号: F0599B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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分類 (1件):
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その他の無機化合物の薄膜 

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