文献

J-GLOBAL ID：200902039363386240   整理番号：91A0947453

1,5-シクロオクタジエン銅(I)ヘキサフルオロアセチルアセトネートによる銅の化学蒸着

Chemical vapor deposition of copper from 1,5-cyclooctadiene copper(I) hexafluoroacetylacetonate.

著者 (6件)： REYNOLDS S K (IBM Research Division, New York) ,  SMART C J (IBM Research Division, New York) ,  BARAN E F (IBM Research Division, New York) ,  BAUM T H (IBM Research Division, California) ,  LARSON C E (IBM Research Division, California) ,  BROCK P J (IBM Research Division, California)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 59  号： 18  ページ： 2332-2334  発行年： 1991年10月28日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 適度に揮発性のある黄色結晶の標記有機銅化合物によるCuの化学...

シソーラス用語： 薄膜成長 ,...
準シソーラス用語： シクロオクタジエン誘導体 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0947453&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (2件)： 銅 ,  化学蒸着