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J-GLOBAL ID：200902039954011041   整理番号：86A0229862

反応性イオンプレーティングに関する研究 III 窒化チタン皮膜の格子定数と結晶粒径

Study on the reactive ion plating. Part III. Lattice constants and grain size of TiN films by RF ion plating.

著者 (3件)： 阿部芳彦 (北海道工試) ,  作田庸一 (北海道工試) ,  八十島幸雄 (北海道工試)
資料名： 北海道立工業試験場報告  (Reports of the Hokkaido Industrial Research Institute)
号： 284  ページ： 163-172  発行年： 1985年11月30日 
JST資料番号： F0674A  ISSN： 0441-7402  CODEN： HOKSA9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 皮膜の結晶配向性,格子定数,結晶粒径及び硬度に及ぼす直流加速...

シソーラス用語： チタン化合物 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 反応性 ,  イオンプレーティング ,  研究 ,  窒化チタン ,  皮膜 ,  格子定数 ,  結晶粒径