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J-GLOBAL ID：200902041867848851   整理番号：85A0260036

KOH水溶液中におけるシリコンの配向依存エッチングに関するエリプソメトリー研究

Ellipsometric study of orientation-dependent etching of silicon in aqueous KOH.

著者 (3件)： PALIK E D (Naval Research Lab., Washington, DC) ,  BERMUDEZ V M (Naval Research Lab., Washington, DC) ,  GLEMBOCKI O J (Naval Research Lab., Washington, DC)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 132  号： 4  ページ： 871-884  発行年： 1985年04月 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2M KOH中で種々の結晶配向とドープのSiウエハ上の皮膜成...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： KOH ,  水溶液 ,  シリコン ,  配向 ,  エッチング ,  エリプソメトリー ,  研究