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J-GLOBAL ID：200902046514039021   整理番号：86A0463384

マイクロリソグラフィーへのイオンビームの応用

Applications of ion beams in microlithography.
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著者 (1件)：
BROWN W L

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(Bell Lab., New Jersey)

Bell Lab., New Jersey について


資料名：
NATO ASI Series. E. Applied Sciences  (NATO ASI Series. E. Applied Sciences)

NATO ASI Series. E. Applied Sciences について


号： 112  ページ： 338-365  発行年： 1986年 
JST資料番号： C0593B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
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抄録/ポイント
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イオンビームは高分子リソグラフィー材料の露光ツールよりもむし...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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回路パターン形成

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分類 (1件)：
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

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タイトルに関連する用語 (3件)：
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マイクロリソグラフィー

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イオンビーム

イオンビーム について

, 
応用

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