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J-GLOBAL ID：200902046611046741   整理番号：81A0002675

平板マグネトロン高周波スパッタで作製したZnO薄膜の特性

Characterization of ZnO piezoelectric films prepared by rf planar-magnetron sputtering.

著者 (3件)： YAMAMOTO T (Kyoto Univ.) ,  SHIOSAKI T (Kyoto Univ.) ,  KAWABATA A (Kyoto Univ.)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 6  ページ： 3113-3120  発行年： 1980年06月 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記高速スパッタで結晶方位と面の平たん性にすぐれた薄膜を得,...

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,...
準シソーラス用語： 平面度

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 平板 ,  マグネトロン ,  高周波スパッタ ,  作製 ,  ZnO薄膜