直流反応性マグネトロンスパッタリングにおけるグロー放電特性の研究

RAO G M; MOHAN S

文献

J-GLOBAL ID：200902048746640565 整理番号：91A0577670

直流反応性マグネトロンスパッタリングにおけるグロー放電特性の研究

Studies on glow-discharge characteristics during dc reactive magnetron sputtering.

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巻： 69 号： 9 ページ： 6652-6655 発行年： 1991年05月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

反応性スパッタリング過程はグロー放電の特性が反応性ガスのため...

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酸化物薄膜 , 気体放電

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