Znの傾斜ターゲットを使った反応性プレーナマグネトロンスパッタリングシステム

文献

J-GLOBAL ID：200902049238042624 整理番号：91A0905121

Reactive Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets of Zn.

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資料名：
巻： 30 号： 9B ページ： 2216-2219 発行年： 1991年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

ZnO膜を製作するための標記システムを作り,ZnO製作への応...

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薄膜成長技術・装置 , 酸化物薄膜

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