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J-GLOBAL ID：200902049530269150   整理番号：85A0139782

極端紫外のための層状合成微細構造技法の考察

Layered synthetic microstructure technology considerations for the extreme ultraviolet.

著者 (1件)： KESKI-KUHA R A M (NASA Goddard Space Flight Center, Maryland)
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 23  号： 20  ページ： 3534-3537  発行年： 1984年10月15日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 層状合成微細構造(LSM)の性能を,とくに300Åスペクトル...

シソーラス用語： 真空紫外線 ,...

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分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： 極端紫外 ,  層状 ,  微細構造 ,  技法