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J-GLOBAL ID：200902050911096250   整理番号：90A0595989

量子化学による薄膜CVDの反応解析と設計

Reaction analysis and design of thin film CVD by quantum chemistry.

著者 (2件)： 佐藤浩太 (千葉大 工) ,  鯉沼秀臣 (東京工大 工材研)
資料名： 化学  (Chemistry)
巻： 45  号： 7  ページ： 508-509  発行年： 1990年07月 
JST資料番号： F0095A  ISSN： 0451-1964  CODEN： KAKYAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SiH₄の基底状態における熱分解の個々...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...
準シソーラス用語： 反応素過程 ,...

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分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 量子化学 ,  薄膜 ,  CVD ,  解析 ,  設計