文献

J-GLOBAL ID：200902053115126766   整理番号：91A0732023

イオンビームスパッタ蒸着によって堆積した強誘電体薄膜のプロセスと構造の関係

Processing-structure relations for ferroelectric thin films deposited by ion beam sputter deposition.

著者 (8件)： KINGON A (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  AMEEN M (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  AUCIELLO O (Microelectronics Center of North Carolina, NC) ,  GIFFORD K (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  AL-SHAREEF H (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  GRAETTINGER T (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  ROU S-H (North Carolina State Univ., North Carolina, USA) ,  HREN P (North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
資料名： Ferroelectrics  (Ferroelectrics)
巻： 116  号： 1/2  ページ： 35-49  発行年： 1991年04月 
JST資料番号： D0777A  ISSN： 0015-0193  CODEN： FEROA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強誘電体薄膜の構造(組成や構造)とプロセスの関係を決定する必...

シソーラス用語： 強誘電体 ,...
準シソーラス用語： PZT【鉛化合物】

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0732023&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0777A") }}

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンビーム ,  スパッタ蒸着 ,  堆積 ,  強誘電体薄膜 ,  プロセス