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J-GLOBAL ID：200902054768191233   整理番号：92A0527183

脂環族ポリマを用いたエキシマ化学増幅レジスト

Alicyclic Polymer for ArF and KrF Excimer Resist Based on Chemical Amplification.
著者 (4件)：
武智敏

武智敏 について

(富士通)

富士通 について

, 
開元裕子

開元裕子 について

(富士通)

富士通 について

, 
野崎耕司

野崎耕司 について

(富士通)

富士通 について

, 
阿部直道

阿部直道 について

(富士通)

富士通 について


資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

Journal of Photopolymer Science and Technology について


巻： 5  号： 3  ページ： 439-445  発行年： 1992年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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メタクリル酸アダマンチル-メタクリル酸t-ブチル共重合体(I...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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フッ化クリプトン

フッ化クリプトン について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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橋架け化合物

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

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タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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脂環族

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ポリマ

ポリマ について

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エキシマ

エキシマ について

, 
化学増幅レジスト

化学増幅レジスト について


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