文献

J-GLOBAL ID：200902055217828644   整理番号：86A0530816

レーザCVDによるタングステン薄膜の形成

Formation of tungsten thin film with laser CVD.

著者 (4件)： 大西寛 (三菱電機生産技研) ,  森田訓子 (三菱電機生産技研) ,  高浜あきら (三菱電機生産技研) ,  星之内進 (三菱電機生産技研)
資料名： 電気学会光・量子デバイス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： OQD-86  号： 78-83  ページ： 31-38(OQD-86-81)  発行年： 1986年09月08日 
JST資料番号： Z0922A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 反応ガスにW(CO)₆を用い,ArFレ...

シソーラス用語： エキシマ ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=86A0530816&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Z0922A") }}

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  レーザの応用  (BD04100V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： レーザCVD ,  タングステン ,  薄膜