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J-GLOBAL ID：200902055655465368   整理番号：87A0118148

X線光電子分光法(XPS),X線吸収分光法(XAS),分析電子顕微鏡法(AEM)による制御雰囲気下での触媒の特性化

Controlled atmosphere catalyst characterization by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS), X-ray absorption spectroscopy(XAS), and analytical electron microscopy(AEM).

著者 (2件)： CASTNER D G (Chevron Research Co., CA, USA) ,  CHAN I Y (Chevron Research Co., CA, USA)
資料名： Microbeam Analysis  (Microbeam Analysis)
巻： 21st  ページ： 617-619  発行年： 1986年 
JST資料番号： E0776B  ISSN： 0278-1727  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO₂担持Co<sub>3</sub...

シソーラス用語： 担持触媒 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (1件)： その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： X線光電子分光法 ,  XPS ,  X線吸収分光法 ,  XAS ,  分析電子顕微鏡法 ,  AEM ,  触媒 ,  特性化