薄膜の化学蒸着における流れ現象

文献

J-GLOBAL ID：200902057119556701 整理番号：91A0780973

Flow phenomena in chemical vapor deposition of thin films.

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資料名：
巻： 23 ページ： 197-232 発行年： 1991年
JST資料番号： A0044A ISSN： 0066-4189 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

化学蒸着(CVD)反応器における流れ現象について,古典的な水...

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