シラン/ヘリウム放電における電子密度と付着率係数の測定

FLEDDERMANN C B; BEBERMAN J H; VERDEYEN J T

文献

J-GLOBAL ID：200902057694509901 整理番号：86A0163346

シラン/ヘリウム放電における電子密度と付着率係数の測定

Measurement of the electron density and the attachment rate coefficient in silane/helium discharges.

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巻： 58 号： 3 ページ： 1344-1348 発行年： 1985年08月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

パルスホロー陰極放電を利用し,SiH₄...

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プラズマ応用 , 薄膜成長技術・装置

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