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J-GLOBAL ID：200902059201998170   整理番号：88A0258961

イオン化クラスタビーム堆積とエピタクシー

Ionized cluster beam deposition and epitaxy.
著者 (1件)：
TAKAGI T

TAKAGI T について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について


資料名：
Physics of Thin Films  (Physics of Thin Films)

Physics of Thin Films について


巻： 13  ページ： 1-58  発行年： 1987年 
JST資料番号： A0210A  ISSN： 0079-1970  CODEN： PYTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記ICB法により元素や化合物の膜のみならず,水素化物,酸化...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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イオンビーム蒸着

イオンビーム蒸着 について

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ICB法

ICB法 について


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分類 (1件)：
分類
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薄膜一般 
(BK14010X)

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, 
堆積

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, 
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