化学蒸着ダイアモンド膜の抵抗率

LANDSTRASS M I; RAVI K V

文献

J-GLOBAL ID：200902064047313341 整理番号：90A0221944

化学蒸着ダイアモンド膜の抵抗率

Resistivity of chemical vapor deposited diamond films.

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巻： 55 号： 10 ページ： 975-977 発行年： 1989年09月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Si基板上にプラズマCVD法で作製したダイアモンド膜(2~4...

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半導体結晶の電気伝導 , 半導体薄膜

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