Novolak design for high resolution positive photoresists (III). a selection principle of phenolic compounds for novolak resins.

文献

J-GLOBAL ID：200902064231906037 整理番号：90A0804488

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巻： 1262 ページ： 476-482 発行年： 1990年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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