反応性マグネトロンスパッタ過程におけるZr-C薄膜の蒸着とプラズマ重合した炭化水素膜

YOSHITAKE M; NOSAKA T; OKAMOTO A; OGAWA S; NISHIKAWA K

文献

J-GLOBAL ID：200902071435266220 整理番号：93A0151536

反応性マグネトロンスパッタ過程におけるZr-C薄膜の蒸着とプラズマ重合した炭化水素膜

Deposition of Zr-C thin films and plasma-polymerized hydrocarbon films in the reactive magnetron sputtering process.

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巻： 221 号： 1/2 ページ： 72-78 発行年： 1992年12月10日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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