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J-GLOBAL ID：200902073461932788   整理番号：89A0464796

レーザ物理蒸着による窒化チタン膜の低温処理

Low-temperature processing of titanium nitride films by laser physical vapor deposition.

著者 (5件)： BIUNNO N (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  NARAYAN J (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  HOFMEISTER S K (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  SRIVATSA A R (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  SINGH R K (North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 54  号： 16  ページ： 1519-1521  発行年： 1989年04月17日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 中性またはイオン化した窒素の存在下で,ホットプレスしたTiN...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： レーザアブレーション法 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ ,  物理蒸着 ,  窒化 ,  チタン膜 ,  低温処理