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J-GLOBAL ID：200902075120842414   整理番号：89A0079743

シリコン上の薄い二酸化けい素の赤外スペクトロスコピー

Infrared spectroscopy of thin silicon dioxide on silicon.

著者 (2件)： OLSEN J E (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  SHIMURA F (North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 53  号： 20  ページ： 1934-1936  発行年： 1988年11月14日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 屈折率の大きい基板上の極薄膜の構造を調べるための60° Ge...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコン ,  二酸化けい素 ,  赤外スペクトロスコピー