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J-GLOBAL ID：200902078630805105   整理番号：92A0844758

可視レーザダイレクトイメージング用化学増感フォトレジスト

A Chemically Amplified Photoresist for Visible Laser Direct Imaging.

著者 (7件)： WALLRAFF G M (IBM Research Division, CA) ,  ALLEN R D (IBM Research Division, CA) ,  HINSBERG W D (IBM Research Division, CA) ,  WILLSON C G (IBM Research Division, CA) ,  SIMPSON L L (IBM Corp., NY) ,  WEBBER S E (Univ. Texas, TX) ,  STURTEVANT J L (Univ. Texas, TX)
資料名： Journal of Imaging Science and Technology  (Journal of Imaging Science and Technology)
巻： 36  号： 5  ページ： 468-476  発行年： 1992年09月 
JST資料番号： D0429B  ISSN： 1062-3701  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題の新しいレジストの特徴と性能を紹介する。本レジストは,高...

シソーラス用語： 可視レーザ ,...

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分類 (3件)： 各種写真法  (ZA03040M) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： レーザダイレクトイメージング ,  化学増感 ,  フォトレジスト