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J-GLOBAL ID：200902082113951166   整理番号：90A0559435

TiN膜及びTi膜の酸化

Oxidation of TiN and Ti films.

著者 (4件)： 道園真一郎 (東大 工) ,  斉藤芳男 (高エネルギー物理研) ,  松田七美男 (東京電機大) ,  金原あきら (東大 工)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 33  号： 3  ページ： 340-342  発行年： 1990年03月 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 加速器のアルミナ高周波窓等のマルチパクタ防止のために一般的に...

シソーラス用語： チタン ,...
準シソーラス用語： マルチパクタ

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (7件)：

• 1) 松田七美男, 他 : 真空, 30 (1987) 446.
• 2) A. R. Nyaiesh et al. : J. vac. Sci. Technol. A4. (1986) 2356.
• 3) 松田七美男, 他 : 真空, 29 (1986) 392.
• 4) W. Pamler : Surf. Interface Anal., 13 (1988) 55.
• 5) 松田七美男, 他 : Proc. of the 7th meeting on UHV accelerators (KEK, Mar. 27-28, 1989).

タイトルに関連する用語 (3件)： TiN膜 ,  Ti膜 ,  酸化