文献

J-GLOBAL ID：200902084299388060   整理番号：91A0553747

マイクロリソグラフィーの化学増幅機構

Chemical Amplification Mechanisms for Microlithography.

著者 (4件)： REICHMANIS E (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  HOULIHAN F M (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  NALAMASU O (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  NEENAN T X (AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 3  号： 3  ページ： 394-407  発行年： 1991年05月 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サブ0.5μmリソグラフィー用の新型の化学増幅レジストについ...

シソーラス用語： リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 光橋架け ,...

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分類 (3件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： マイクロリソグラフィー ,  化学 ,  増幅