光化学蒸着により成長させる場合の水素化非晶質シリコン膜におけるシランの水素希釈の影響

文献

J-GLOBAL ID：200902084733435462 整理番号：87A0394550

Effect of hydrogen dilution of silane in hydrogenated amorphous silicon films prepared by photochemical vapor deposition.

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巻： 25 号： 12 ページ： 1778-1782 発行年： 1986年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

シラン-水素混合ガスの水銀光増感分解による水素化非晶質シリコ...

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半導体薄膜

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