マイクロエレクトロニクス応用のためのW/Cu/W層状膜の制御したイオンビームスパッタ蒸着

AUCIELLO O; CHEVACHAROENKUL S; AMEEN M S; DUARTE J

文献

J-GLOBAL ID：200902085201710690 整理番号：91A0658219

マイクロエレクトロニクス応用のためのW/Cu/W層状膜の制御したイオンビームスパッタ蒸着

Controlled ion beam sputter deposition of W/Cu/W layered films for microelectronic applications.

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資料名：
巻： 9 号： 3 Pt 1 ページ： 625-631 発行年： 1991年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

自動化イオンビームスパッタ装置でW/Cu/W層状膜を作製し,...

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金属薄膜 , 固体デバイス製造技術一般

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