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J-GLOBAL ID：200902085687211577   整理番号：87A0052359

いろいろな方法で形成したAl₂O₃膜の評価

Characterization of Al₂O₃ films deposited by various methods.

著者 (3件)： RAJOPADHYE N R (Univ. Poona, Pune, IND) ,  DAKE S B (Univ. Poona, Pune, IND) ,  BHORASKAR S V (Univ. Poona, Pune, IND)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 142  号： 1  ページ： 127-138  発行年： 1986年08月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高周波スパッタリング,CVD,真空蒸着後の酸化の方法によりA...

シソーラス用語： RFスパッタリング ,...
準シソーラス用語： ダイノード

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  熱電子放出,電界放出  (BM09020S)

タイトルに関連する用語 (2件)： Al2O3 ,  評価