シリコン熱酸化のオゾンによる増強

CHAO S C; PITCHAI R; LEE Y H

文献

J-GLOBAL ID：200902086423250988 整理番号：90A0157298

シリコン熱酸化のオゾンによる増強

Enhancement in thermal oxidation of silicon by ozone.

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資料名：
巻： 136 号： 9 ページ： 2751-2752 発行年： 1989年09月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Si上のSiO₂層の熱成長の促進に対し...

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酸化物薄膜 , 固体デバイス製造技術一般

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